Hakuto 離子蝕刻機(jī) 7.5IBE 用于刻蝕硅微機(jī)械陀螺芯片2022-11-30

Hakuto 全自動離子刻蝕機(jī) MEL3100 用于刻蝕薄膜磁盤2022-11-24

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-J 應(yīng)用于硬盤 GMR 磁頭2022-11-24

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 用于蝕刻 FSD 車載 AI 芯片2022-11-24

Hakuto 全自動離子刻蝕機(jī) MEL 3100 應(yīng)用于集成電路制造中刻蝕2022-11-24

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 應(yīng)用于碲鎘汞晶體電學(xué)特性研究2022-11-24

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE 去除印刷電路板污染物2022-11-24

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 7.5IBE 用于芯片去層2022-11-24

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-J 用于光學(xué)器件精密加工2022-11-24

Hakuto 全自動離子刻蝕機(jī) MEL3100用于蝕刻覆銅板2022-11-24

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 用于蝕刻 KDP 晶體2022-11-24

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 用于鐵電薄膜研究2022-11-24

hakuto 離子刻蝕機(jī) 7.5IBE 用于芯片制造中厚鋁刻蝕2022-11-24

hakuto 離子刻蝕機(jī) 10IBE 用于多晶黑硅損傷去除與鈍化性能研究2022-11-17

hakuto 離子刻蝕機(jī) 20IBE 刻蝕濾波器鉭酸鋰晶片2022-11-17

hakuto 離子刻蝕機(jī) 10IBE 制作DNA芯片模板2022-11-17

hakuto 離子刻蝕機(jī) 10IBE 刻蝕衍射光學(xué)元件提高均勻度2022-11-17

hakuto 離子刻蝕機(jī)運(yùn)用于 PDMS 軟刻蝕用母模板研究2022-11-17

hakuto 離子刻蝕機(jī) 7.5IBE 用于氮化硅刻蝕工藝研究2022-11-17

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 用于制作閃耀羅蘭光柵2022-11-17

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-J 用于陶瓷基片銀薄膜減薄2022-11-17

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蝕2022-11-17

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 濺射制備類金剛石 Ta-C 涂層2022-11-14

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積 Cu-W 膜2022-11-14

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 用于鋁表面濺射沉積 ZrN 薄膜2022-11-14

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 用于濺射沉積硅片金屬薄膜2022-11-14

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 成功用于復(fù)合磁控濺射沉積裝置2022-11-14

KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射沉積紅外器件介質(zhì)膜2022-11-14

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積 NSN70 隔熱膜2022-11-14

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積制備碳薄膜2022-11-14

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積 BCx 薄膜2022-11-14

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積納米純 Ti 薄膜2022-11-09

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 鍍制氣體傳感器 WO3 薄膜2022-11-09

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 MoN 薄膜2022-11-09

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 成功用于多靶磁控濺射鍍膜機(jī)2022-11-09

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積鈦金屬薄膜2022-11-09

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 鍍制紅外器件 ZnS 薄膜2022-11-09

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積半導(dǎo)體 IGZO 薄膜2022-11-07

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 ZnNi 合金薄膜2022-11-07

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 制備 IFBA 芯塊 ZrB2 涂層2022-11-07

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 制備 NGZO 薄膜2022-11-07

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 制備富硅SiNx薄膜2022-11-07

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射多層沉積 Nb3Sn 超導(dǎo)薄膜2022-11-07

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 濺射沉積 NSN70 隔熱膜2022-11-07

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射 WS2 薄膜2022-11-07

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 制備 YIG 薄膜2022-11-07

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積鋁錳合金薄膜2022-10-27

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助濺射沉積 MnZn 鐵氧體薄膜2022-10-27

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射制 TiSiN-Ag 薄2022-10-27

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 Ir 膜2022-10-27