最新供應(yīng)共577條信息
inTEST 熱流儀光模塊高低溫沖擊測(cè)試2023-01-09
inTEST 熱流儀 RF 射頻芯片高低溫沖擊測(cè)試2023-01-09
inTEST 熱流儀腔體濾波器模塊高低溫測(cè)試2023-01-09
inTEST 熱流儀搭配壓力機(jī)進(jìn)行壓力傳感器 MENS 溫度測(cè)試2023-01-09
上海伯東美國(guó) Gel-Pak 提供 ESD 防靜電芯片包裝盒2023-01-06
德國(guó) Pfeiffer 推出適用于質(zhì)譜分析的新型 SmartVane 單級(jí)旋片泵2023-01-06
上海伯東德國(guó) Pfeiffer 推出符合潔凈室 ISO 8 標(biāo)準(zhǔn)的隔膜泵2023-01-06
上海伯東等離子機(jī) TC 處理應(yīng)用于 PS 微流控芯片2023-01-06
上海伯東代理高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng), 助力科研創(chuàng)新！2023-01-06
上海伯東代理 E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)2023-01-03
上海伯東代理脈沖激光沉積設(shè)備 PLD-18L2023-01-03
上海伯東代理分子束外延設(shè)備 MBE-82023-01-03
上海伯東代理分子束外延設(shè)備 MBE-102023-01-03
上海伯東代理超高真空離子刻蝕機(jī) IBE2023-01-03
伯東代理原子層沉積設(shè)備 Thermal ALD2023-01-03
有機(jī)材料熱蒸鍍?cè)O(shè)備 OLED, OPV2022-12-21
金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備 Metal Thermal Evaporation System2022-12-21
連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備 In-Line Sputter2022-12-21
多層膜磁控濺鍍?cè)O(shè)備 Multilayer Sputter2022-12-21
超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備 UHV Sputter2022-12-21
磁控共濺鍍?cè)O(shè)備 Co-Sputter2022-12-21
上海伯東代理剝離成形電子束蒸鍍?cè)O(shè)備2022-12-21
超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 UHV E-beam Evaporation Syste2022-12-21
電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 E-beam Evaporation System2022-12-21
雙級(jí)旋片泵應(yīng)用于奶制品冷凍干燥2022-12-16
雙級(jí)旋片泵應(yīng)用于紅外光譜儀2022-12-16
雙級(jí)旋片泵應(yīng)用于檢測(cè)儀器2022-12-16
雙級(jí)旋片泵應(yīng)用于凍干機(jī)設(shè)備2022-12-16
分子泵組應(yīng)用于真空管式爐2022-12-16
分子泵組應(yīng)用于回旋加速器2022-12-16
渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD2022-12-16
分子泵組應(yīng)用于紅外原位分析平臺(tái)2022-12-16
分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)2022-12-16
分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用2022-12-16
分子泵組應(yīng)用于低溫真空探針臺(tái)2022-12-16
渦輪分子泵組吡啶紅外抽真空2022-12-16
為什么分子泵需要前級(jí)泵2022-12-02
伯東 Pfeiffer 分子泵用于冷原子超高分辨成像譜儀2022-12-02
伯東 Pfeiffer 真空泵 HiPace 80 應(yīng)用于磁控離子濺射鍍膜儀2022-12-02
伯東 Pfeiffer 真空泵用于同位素測(cè)試儀器2022-12-02
伯東 Pfeiffer 真空泵 Hipace 1200及ACP 40用于制冷項(xiàng)目2022-12-02
伯東 Pfeiffer 真空泵用于真空管式爐2022-12-02
伯東 Pfeiffer 真空泵在分子束外延MBE設(shè)備上的應(yīng)用2022-11-30
伯東 Pfeiffer 真空泵在石墨烯生長(zhǎng)裝置的應(yīng)用2022-11-30
渦輪分子泵的壓縮比定義2022-11-30
分子泵內(nèi)部油潤(rùn)滑與脂潤(rùn)滑區(qū)別2022-11-30
Pfeiffer 旋片泵日常保養(yǎng)及常見(jiàn)故障2022-11-30
伯東離子刻蝕機(jī) IBE 用于金銅鎳銀鉑等材料微米級(jí)刻蝕2022-11-30
Hakuto 離子刻蝕機(jī) 20IBE-C 用于半導(dǎo)體晶圓刻蝕2022-11-30