隨著半導體大廠先進制程芯片競爭日益升溫，EUV光刻機成為市場“香餑餑”，引發業界關注。

目前，英特爾率先拿到了ASML High-NA EUV光刻機設備，并于近期宣布該臺光刻機完成組裝。

三星也不甘示弱，表示將與ASML EUV光刻機組件供應商蔡司聯手，在EUV領域深化合作。

與此同時，ASML第二臺High-NA EUV光刻機也傳出交付的消息，但買家成謎。

三星與蔡司聯手，深化EUV合作

韓媒報道，三星電子的執行董事長李在镕(Jay Y. Lee)近期在德國會見了蔡司總裁兼首席執行官卡爾?蘭普雷希特(Karl Lamprecht)及其他公司高管。

會議上，雙方同意擴大在EUV技術和尖端半導體設備研發方面的合作，

以增強兩家公司在晶圓代工代工和存儲芯片領域的業務競爭力。

通過這次合作，三星希望提升下一代半導體技術，優化芯片制造流程，提高先進芯片的生產良率。

蔡司還計劃到2026年投資480億韓元在韓國建設研發中心，加強同三星等韓企的戰略合作。

資料顯示，蔡司是光學與光電解決方案開發商，也是光刻機大廠ASML EUV光刻機獨家供應商，

每臺EUV光刻機中包含了三萬多個由蔡司提供的組件。

蔡司在EUV技術方面擁有超過2000項核心專利，其掌握的技術可以在高性能先進芯片生產中發揮重要作用。

未來，三星電子和蔡司將進一步擴大雙方在EUV技術和先進半導體設備相關領域的合作。

ASML第二臺High NA EUV光刻機已交付?

近期，英特爾表示完成ASML High NA EUV光刻機的安裝，已進入光學系統校準階段。

這是ASML生產的首臺High NA EUV光刻機，價值高達3.5億歐元，英特爾計劃用該款設備生產1.8nm以下的先進制程芯片。

媒體報道，除了英特爾以外，臺積電、三星、美光等廠商也向ASML訂購了High NA EUV光刻機。

ASML財報中透露，今年第一季度公司新增訂單金額為36億歐元，其中6.56億歐元為EUV光刻機訂單。

近期ASML對外交付了第二臺High NA EUV光刻機，但未透露買家信息。

目前兩臺High NA EUV光刻機并無法滿足市場對先進制程芯片的需求，未來ASML還計劃生產更多高端光刻機設備。