近日，華工正源數(shù)項專利申請獲國家知識產(chǎn)權局授權，其中，發(fā)明專利“一種條形掩埋分布反饋半導體激光器的制作方法”掌握了光器件核心激光器制作的關鍵技術，采用本發(fā)明方法制作的激光器具有低閾值、低電阻、高可靠性、高成品率等特點，可在更大溫度區(qū)間環(huán)境中穩(wěn)定工作；實用新型專利“光探測器TO-CAN自動耦合測試系統(tǒng)”相關技術的應用，能縮短耦合與上下料時間，減少人工成本，將產(chǎn)能由原來的90pcs/h提升到180pcs/h，效率提升1倍。

　　同時獲得授權的還有發(fā)明專利“一種具有特殊組裝結構的光收發(fā)合一模塊”、實用新型專利“自動彎剪光通訊器件腳的夾具”、“一種實現(xiàn)窄波長間隔波段分離的光學裝置”等，上述專利涉及芯片、TO、器件、模塊的核心技術，已經(jīng)用于批量生產(chǎn)，對提升華工正源自主創(chuàng)新及規(guī)模生產(chǎn)的競爭優(yōu)勢具有重要意義。