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二氧化碳激光打標機采用的光學系統解析

時間:2013年08月15日瀏覽:1425次收藏分享:
 二氧化碳激光打標機采用的光學系統解析:大家都應該知道在激光行業中,統稱為光學系統的有,導光系統,聚焦系統,勻光系統等,還要清楚激光器輸出的系統需經過導光系統.在光學系統當中,根據加工不同的效果,不同的要求,所對應激光的波長,輸出功率也就不一樣,因此采用的激光元件自然也就要改變了,選擇一款合適的激光光學元件是對加工產品質量的保證,也是影響的一大因素,了解光學元件的基本構成成了一門不不可少的課程。在激光光學元件中大致分為兩大型的光學元件,透射型跟反射型,在激光設備中的激光器的輸出鏡、聚焦系統的透鏡、光路中的凌鏡均成為透射型,透射型的光學元件有著良好的波段,它在激光設備中保證了激光輸出穩定的波長,因此達到良好的切割效果,在激光器中常用的二氧化碳激光打標機采用的透射波長為10.6微米的紅外線,達到的效果相當的高,那么CO2激光器材料本身的透過率不能滿足的要求是,輸出的功率需要特殊的輸出窗口跟透射性的材料,因為一般情況下輸出的功率達到的效果相當的高,需要加工訂制。

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