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c-BN涂層及其在刀具上的應(yīng)用

時間:2009年02月23日瀏覽:517次收藏分享:

1 引言
    隨著現(xiàn)代切削技術(shù)的發(fā)展,金屬切除率不斷提高。1900年,用碳素工具鋼刀具車削標(biāo)準(zhǔn)鋼棒(Ø500mm×100mm)需用時約100分鐘,20世紀(jì)50年代采用硬質(zhì)合金刀具后,加工時間縮短為幾分鐘。
1969年開始采用涂層硬質(zhì)合金刀具,最初用涂層刀片切削標(biāo)準(zhǔn)鋼棒需用時1.5min,而采用GC1025和GC015涂層刀片使加工時間進(jìn)一步縮短到1.25min和 1min。通過對加工過程進(jìn)行分析可知,要提高切削速度、降低切削成本,在所有加工因素中最經(jīng)濟(jì)的辦法就是應(yīng)用新型刀具材料。 
    刀具表面涂層是提高刀具壽命、降低切削成本的有效手段。刀具涂層不僅可以提高刀具的表面硬度,增強(qiáng)其耐磨性,而且可以減小刀具表面摩擦系數(shù),增加潤滑能力,提高切削速度,減少換刀次數(shù),提高被加工零件的精度和表面質(zhì)量,從而提高生產(chǎn)效率。目前,在工業(yè)發(fā)達(dá)國家,涂層刀具已占所用全部刀具的80%以上,而我國這一比例尚不及20%,因此推廣涂層刀具的應(yīng)用、開發(fā)新的涂層刀具材料具有重大意義。 
    c-BN(Cubic Boron Nitride,立方氮化硼)是繼人工合成金剛石之后出現(xiàn)的另一種超硬無機(jī)材料,它除了具有許多與金剛石類似的優(yōu)異物理、化學(xué)特性,如超高硬度(僅次于金剛石)、高耐磨性、低摩擦系數(shù)、低熱膨脹系數(shù)等,同時還具有一些優(yōu)于金剛石的特性(c-BN與金剛石的性能對比見右表)。與金剛石不適合加工鋼鐵材料不同,c-BN對鐵族金屬具有極為穩(wěn)定的化學(xué)性能,因此可廣泛用于鋼鐵制品的精密加工、研磨等。c-BN除具有優(yōu)良的耐磨損性能外,其耐熱性也極為優(yōu)良,在相當(dāng)高的切削溫度下也能切削耐熱鋼、淬火鋼、鈦合金等,并能切削高硬度的冷硬軋輥、滲碳淬火材料以及對刀具磨損非常嚴(yán)重的Si-Al合金等難加工材料。 
    c-BN并不是天然存在的,需要靠人工合成,合成c-BN的傳統(tǒng)方法是高溫高壓法。這種方法對合成條件要求苛刻,成本高,而且只能得到 c-BN細(xì)小粉末,僅能用作磨料和聚晶c-BN刀具。盡管如此,由于使用了粘結(jié)劑,這種價格昂貴的刀具的加工性能也大大降低。因此迫切需要開發(fā)價格更低、質(zhì)量更高的c-BN制備技術(shù)。
                 c-BN與金剛石的性能對比表 
        
2 c-BN涂層的制備方法 
    BN具有三種異構(gòu)體,即h-BN、c-BN和w-BN。h-BN(六方氮化硼)具有與石墨極為相似的結(jié)構(gòu),又稱為“白色石墨”,質(zhì)地也很軟;而c-BN的結(jié)構(gòu)和性能與金剛石相近。1987年Inagawa等人成功地制備了純度較高的c-BN薄膜,隨后許多研究人員相繼采用物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積 (CVD)方法成功制備了c-BN,從而在國際上掀起了研究立方氮化硼薄膜的熱潮。在多種制備方法中,最典型的方法是等離子體增強(qiáng)脈沖激光沉積法和熱絲輔助射頻等離子體化學(xué)氣相沉積法。 
    (1)等離子體增強(qiáng)脈沖激光沉積法
                   
            圖1 等離子體增強(qiáng)脈沖激光沉積裝置 
    圖1為等離子體增強(qiáng)脈沖激光沉積裝置示意圖。該裝置主要包括多波段Nd:YAG激光器、等離子槍和抽真空系統(tǒng)。等離子槍包括一個熱電子發(fā)射陰極(熱陰極,由鎢絲制作的燈絲構(gòu)成)和一個陽極;固體激光器產(chǎn)生的高能激光作用在靶材(h-BN)上,溫度可達(dá)10000℃,靶材在高溫下熔化和氣化,產(chǎn)生B蒸氣;熱陰極發(fā)射的熱電子激活反應(yīng)氣體N2產(chǎn)生等離子體N+,它與B蒸氣反應(yīng),在基片上沉積BN薄膜。基極偏壓的作用是輔助沉積,基片距靶材5cm,在沉積過程中基片不停旋轉(zhuǎn)。 
    等離子體增強(qiáng)脈沖激光沉積裝置沉積c-BN的典型條件為:RF入射功率10~150W,基極負(fù)偏壓100~200V,激光能量密度25J/cm2,沉積時間5~15min。
(2)熱絲輔助射頻等離子體CVD法
            
           圖2 熱絲輔助射頻等離子體CVD裝置 
    圖2為熱絲輔助射頻等離子體CVD裝置示意圖。射頻電源產(chǎn)生的高頻電磁振蕩激發(fā)反應(yīng)氣體產(chǎn)生等離子體,置于基片上方的熱絲一方面對基片和反應(yīng)氣體加熱以提供更多熱能,另一方面熱絲發(fā)射的熱電子進(jìn)一步增強(qiáng)等離子體,以提高反應(yīng)氣體離解率;基片溫度通過調(diào)節(jié)燈絲電壓進(jìn)行控制。反應(yīng)氣體為B2H6與NH3的混合氣體,混合前先用高純度H2分別稀釋至1%~5%,再按NH3:B2H6=3:1的體積比混合并通過反應(yīng)室。制備前先將反應(yīng)室抽至小于1Pa的基礎(chǔ)真空度,并用H2清洗幾分鐘。
3 應(yīng)用現(xiàn)狀及發(fā)展前景 
    我們采用等離子體增強(qiáng)脈沖激光沉積法制備了c-BN涂層,試驗(yàn)采用的沉積條件為:入射功率100W,基極負(fù)偏壓110V,激光能量密度25J/cm2,沉積時間為10min。經(jīng)紅外光譜檢驗(yàn),發(fā)現(xiàn)所得到的c-BN涂層不僅含有h-BN(其含量隨制備工藝參數(shù)不同而變化),而且制備的涂層與基體粘著力不強(qiáng)。事實(shí)上,無論采用PVD法還是CVD法,目前制備的c-BN涂層都不同程度地含有h-BN。鑒于目前所能得到的c-BN涂層的質(zhì)量,它只能作為切削刀具涂層,因?yàn)榈毒咄繉訉ν繉拥慕M分無嚴(yán)格要求。因此,目前針對c-BN涂層研究最多的是在刀具上的應(yīng)用。將c-BN薄膜作為刀具的耐磨涂層,可以成倍乃至幾十倍地提高刀具的使用壽命。美國、日本的許多企業(yè)在此方面進(jìn)行了大量投資,以充分開發(fā)c-BN材料的潛在優(yōu)勢。預(yù)計(jì)近年超硬涂層工具的市場將達(dá)到每年 20億美元,并且應(yīng)用領(lǐng)域主要集中在汽車工業(yè)。 
    由于形成c-BN涂層時總是伴隨著很大的內(nèi)應(yīng)力,因此c-BN涂層極易從基體上脫落。我們的試驗(yàn)也證明,c-BN涂層刀具要走向?qū)嵱没壳白畲蟮碾y題是要解決c-BN涂層與硬質(zhì)合金基體之間的結(jié)合力。目前較為有效的方法是在基體與涂層之間增加過渡層,如氮化鈦、氮化硅、富硼梯度層等。過渡層能顯著減少涂層的內(nèi)應(yīng)力,從而提高涂層與基體的結(jié)合力。然而要真正達(dá)到實(shí)用要求,還有待進(jìn)一步研究與改良。 
    馬錫英等選用與c-BN晶格常數(shù)非常接近且具有面心立方結(jié)構(gòu)的Ni作為襯底材料來沉積c-BN涂層,并將其與Si襯底進(jìn)行比較,發(fā)現(xiàn)Si襯底與c-BN的晶格常數(shù)失配度高達(dá)33%,而Ni襯底與c-BN的晶格常數(shù)失配度僅1.3%。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,在Ni襯底上生長的c- BN薄膜質(zhì)量較好,而Si襯底上生長的薄膜則出現(xiàn)了剝離現(xiàn)象。當(dāng)在Si襯底上濺射了Ni過渡層后,制備的c-BN薄膜質(zhì)量明顯得到改善。 
    要制備實(shí)用的c-BN刀具涂層,除需選用理想的過渡層材料外,還應(yīng)盡可能降低涂層中的內(nèi)應(yīng)力,我們正在嘗試采用激光熱處理方法來降低涂層中的內(nèi)應(yīng)力。相信在業(yè)界研究人員的共同努力下,制備出能解決生產(chǎn)急需的理想的c-BN刀具涂層已為時不遠(yuǎn)。

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