半導體材料（semiconductor material）是一類具有半導體性能（導電能力介于導體與絕緣體之間，電阻率約在1mΩ?cm～1GΩ?cm范圍內(nèi)）、可用來制作半導體器件和集成電路的電子材料。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業(yè)的重要部件、光學儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學研究的重要材料。

本文主要介紹上海伯東KRI離子源在半導體材料SiO2中的預清洗及刻蝕應用。

SiO2預清洗的原因:

SiO2在刻蝕前需要將其表面的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層等去除，且不破壞晶體的表面特性。

KRI離子源在SiO2基片預清洗方法：

客戶自己搭建真空系統(tǒng)，集成離子源，具體做法如下。
1.將SiO2基片放進真空系統(tǒng)，調(diào)整離子源；
2.抽取真空到某真空度后，啟動離子源；
3.利用離子源釋放的能量對SiO2基片進行轟擊；

KRI離子源在SiO2材料預清洗客戶案例：

成都某工藝研究所，通過伯東購買離子源KDC40

KRI離子源優(yōu)勢：

1.考夫曼離子源通過控制離子的強度及濃度, 使拋光刻蝕速率更快更準確, 拋光後的基材上獲得更平坦, 均勻性更高的薄膜表面。

2.KDC 考夫曼離子源內(nèi)置型的設計更符合離子源於離子拋光機內(nèi)部的移動運行。

3.不僅廣泛應用於生產(chǎn)單位, 且因離子抨擊能量強, 蝕刻效率快。

4.可因應多種基材特性,單次使用長久, 耗材成本極低, 操作簡易, 安裝簡易。

伯東公司是美國 KRI 考夫曼離子源中國總代理。

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