HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機
OLED 鍍膜機主要面向有機半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能更穩定, 器件效率更高, 性價比高,
HVA 高真空閘閥應用
一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統或低溫泵系統來實現高真空度的需求, 所以對于生產 OLED 鍍膜機的客戶, 為了節省抽空時間和防止基片的污染, 會選擇在 LOADLOCK 與主腔間進行快速傳樣, 由于兩腔室工作的真空度要求不同, 會在腔室之間增加高真空閥門來隔離系統.
有時科研設備并不配置 LOADLOCK, 但出于泵組快速抽空或方便檢修要求, 還是會根據分子泵的進氣口徑來配置高真空閥門隔離系統. 上海伯東美國 HVA 真空閥門已廣泛應用于 OLED 鍍膜機
上圖是某 OLED 鍍膜機廠家配置上海伯東美國 HVA 高真空閘閥, 我司根據鍍膜系統的自動化要求, 配置 HVA 11000 系列尺寸以 4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標準不銹鋼氣動高真空閘閥,
上海伯東美國 HVA 高真空閘閥 11000 系列產品
閥門材質: | |
- 閥門主體 | 304 不銹鋼 |
- 焊接波紋管軸封 | AM - 350 |
閥門密封方式 | |
- 高真空 | 氟橡膠 |
- 超高真空 | 銅墊圈 / 氟橡膠 |
真空: | |
- 壓力范圍 | 高真空 1x10-9 mbar, 超高真空 1x10-10 mbar |
- 漏率 | < 2x10-9 mbar l/S |
- 差壓關閉 | 1 bar ( 任意位置 ) |
- 開啟前最大壓力 | ≤ 30 mbar |
烘烤溫度（不含電磁閥）: | |
- 佛橡膠密封 | 150 ?c, 可選配置最大 250 ?c |
- 銅墊圈密封 | 閥門關閉 200 ?c, 閥門打開 150 ?c |
- 驅動方式 | 手動 60 ?c, 氣動 60 ?c |
- 氣體 | 80 psig (5.5 bar) |
- 電磁 | 4.0 Watts |
- 供電 | 120 VAC 50 /60 Hz |
- 可選電壓 | 24, 200, 240 VAC 50/60 Hz |
- 位置指示器,最大 | 115 VAC |
使用壽命: 100,000 啟閉次數 (具體視實際使用情況決定) | |
公稱通徑: DN 16 - 800 mm | |
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