單晶硅清洗超純水_超純水設備_EDI超純水

馬錦玉：18151073719     陳林瑩：19951191081

單晶硅在生產過程中對用水要求十分嚴格，所以超純水設備就成為了必不可少的裝置之一，單晶硅超純水設備被廣泛應用于太陽能電池、單晶硅/多晶硅硅片硅材料清洗、LED、LCD、光電光學行業領域中。單晶硅生產工藝用超純水設備采用全自動控制系統，保證設備具有操作簡單，運行穩定等優點。  

EDI超純水設備是一種將離子交換技術、離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。EDI超純水技術具有技術先進、操作簡便、無污染，是清潔生產技術，在微電子工業、電力工業、醫藥工業、化工工業和實驗室等領域得到日趨廣泛的應用。

設備特點

　  1自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。

2膜組件為復合膜卷制而成，表現出更高的溶質分離率和透過速率。

3整體化程度高，易于擴展，增加膜數量即可增加處理量。

4、能耗低，水利用率高，運行成本低。

　　5、結構合理，占地面積少。

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