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3D NAND 工藝通過堆疊存儲單元, 提供更高的比特密度, 上海伯東日本 Atonarp Aston? 質譜分析儀適用于先進半導體工藝（如沉積和蝕刻）所需的定量氣體分析. 沉積應用中: 實時過程氣體監控，以驅動自動化工具調整以實現過程控制, 沉積步驟之間的終點檢測, 實現層的化學計量工程; 蝕刻應用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產品, 啟用端點腔室清潔.
3D NAND 工藝概述
工藝步驟
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ASTON 優勢
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工藝步驟
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ASTON優勢
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來源: Lam Research: 3D NAND - Key Process Steps (2016) url: https://www.youtube.com/watch?v=hglK1cf3meM
Aston? 質譜儀優勢
ppb 級靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結構
耐腐蝕性氣體, 堅固緊湊
易于集成到工具平臺中
沉積應用中: 實時過程氣體監控，以驅動自動化工具調整以實現過程控制, 沉積步驟之間的終點檢測, 實現層的化學計量工程
蝕刻應用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產品, 啟用端點腔室清潔
Atonarp Aston? 質譜分析儀技術參數
類型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
型號 | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
質量分離 | 四級桿 | |||||
真空系統 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 |
檢測器 | FC /SEM | |||||
質量范圍 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
分辨率 | 0.8?0.2 | |||||
檢測限 | 0.1 PPM | |||||
工作溫度 | 15-35“℃ | |||||
功率 | 350 W | |||||
重量 | 15 kg | |||||
尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) | ||||
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