上海伯東 Hakuto 真空設備在真空鍍膜行業應用實例
PVD 真空鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術, 在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上. 真空鍍膜有三種形式, 即蒸發鍍膜, 濺射鍍膜和離子鍍. 目前市面上常見的進口 PVD 鍍膜設備廠家主要有荷蘭豪澤 Hauzer, 瑞士 Platit, 瑞士巴爾查斯 Balzers, 德國萊寶 Leybold, 日本光馳 Optorun 等.
根據鍍膜對象常見的應用主要包含裝飾鍍膜, 刀具鍍膜, 光學鍍膜, 硅片鍍膜等. 上海伯東 Hakuto 作為進口真空設備代理商, 代理的品牌德國 Pfeiffer, 美國 Polycold 冷凍機, 美國 KRI 離子源等廣泛應用在真空鍍膜行業. www.hakuto-vacuum.cn
上海伯東 Pfeiffer 分子泵鍍膜行業應用:
由于目前對 PVD 鍍膜設備的清潔度, 鍍膜層的質量, 所用材料等要求的不斷提高, 傳統的以油擴散泵為主的真空系統因油蒸汽污染等原因已經無法滿足工藝要求. 因此以分子泵為主的無油真空鍍膜系統已逐漸成為鍍膜市場的主流, 上海伯東代理的德國 Pfeiffer 分子泵依靠自身過硬技術在全球分子泵領域一直處于主導地位并和國際, 國內知名鍍膜涂層設備制造商長期合作.
上海伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵抽速范圍 10 至 2700 L/S, 轉速最高 90,000 rpm, 極限真空最大 1E-11 mbar, 對小分子氣體具有更高的壓縮比, 實踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵運行時間可以達到 100,000 小時!Pfeiffer 分子泵提供復合軸承分子泵和五軸全磁浮分子泵二大系列滿足不同應用, 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 上海伯東 Hakuto 是德國 Pfeiffer 在國內的指定代理商, 全權負責 Pfeiffer 真空產品的銷售和維修服務.
上海伯東 Pfeiffer 氦質譜檢漏儀鍍膜行業應用:
鍍膜機需要在高真空環境下工作, 真空度的好壞直接影響鍍膜的品質. 有時候鍍膜機的真空度抽不下來或者真空度不好, 可能是接頭松動或者有焊縫出現虛焊. 傳統的檢漏方法需要鍍膜機停機充氮氣, 再在懷疑有漏的地方涂上肥皂泡, 整個過程耗時費力容易誤判, 對于細微的泄漏無法檢測. 上海伯東代理 Pfeiffer 氦質譜檢漏儀利用氦氣作為示蹤氣體, 最小漏率小于 5E-13 Pa m3/s, 安全環保, 檢漏時不需要停機, 直接在真空泵的旁路接入檢漏儀便可以快速高效的完成檢測了.
結合了 Pfeiffer 與 Adixen 兩家檢漏儀的技術優勢, 上海伯東德國 Pfeiffer 推出全系列新型號氦質譜檢漏儀,從便攜式檢漏儀到工作臺式檢漏儀滿足各種不同的應用. 氦質譜檢漏儀替代傳統泡沫檢漏和壓差檢漏, 利用氦氣作為示蹤氣體可精確定位, 定量漏點. 氦質譜檢漏儀滿足單機檢漏, 也可集成在檢漏系統或 PLC. 上海伯東 Hakuto 是德國 Pfeiffer 在國內的指定代理商, 全權負責 Pfeiffer 真空產品的銷售和維修服務.
上海伯東 Polycold 冷凍機真空鍍膜行業應用:
真空鍍膜機(濺鍍,蒸鍍)如果使用油擴散泵抽真空, 腔體內會殘留大量水汽和油蒸汽, 不但影響抽真空的時間, 水汽和油蒸汽還是鍍膜工件主要的污染源, 從而影響鍍膜產品的產量和質量. 真空鍍膜設備通過加裝上海伯東代理的美國 Polycold 冷凍機(水汽深冷泵)在真空度 10-2 至 10-8 mabr 之間快速吸附真空腔內殘余水汽和油氣, 真空抽氣時間縮短 75%, 企業產能可增加 20% 到 100%, Polycold 冷凍機目前已廣泛加裝在日本光馳 Optorun. 日本新柯隆 Shincron, 德國萊寶 Leybold 真空鍍膜機中
上海伯東 Polycold 冷凍機利用新型無毒環保型冷媒, 可完全替代目前液氮 LN2 冷凍法. 與傳統 LN2 冷卻法對比, 冷媒可循環使用,更加降低了企業成本. 與高溫烘烤方法對比, 高溫烘烤只是把水分子從基片表面遷移, 使基片減少對水蒸氣的吸附, 但是水蒸氣還是存在于腔體內, 依然影響抽氣效率。Polycold 冷凍機是將 90% 以上的水分子吸附在低溫盤管(Cryocoil)的表面, 同時吸附掉真空腔內部分油分子, 如果在真空腔水冷阱的上面放置 Polycold 冷阱, 不僅能吸抽水汽還可以防止擴散泵返油. 上海伯東是美國 Polycold 冷凍機中國地區唯一指定總代理,全權負責 Polycold 銷售和售后維修服務.
上海伯東 KRI 離子源真空鍍膜行業應用:
光學鍍膜 optics coating 在真空鍍膜中會出現膜層不均勻,或是產品膜層脫落等現象.上海伯東代理的美國原裝進口 KRI 離子源在光學鍍膜中主要起到了預清潔及輔助鍍膜的作用,由于膜層表面很光滑,在鍍膜時會產生膜層脫落現象,預清潔就是將膜層表面用大的離子如 Ar打擊表面,使得制程物能有效的吸附在表面上.
1978 年 Dr.Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson,Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless, 美國考夫曼離子源歷經 30 年改良及發展已取得多項專利. 廣泛用于離子清洗.離子蝕刻, 輔助鍍膜領域. 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理
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上海伯東主營真空品牌:德國 Pfeiffer 真空設備;美國 Brooks Polycold 冷凍機;美國 KRI 考夫曼離子源;美國 HVA 真空閘閥:美國 inTEST(Temptronic)高低溫循環試驗機;日本 NS 離子蝕刻機等。
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