傳統直接蒸發 HfO2塊材料, 容易產生節瘤缺陷, 吸收很大, 限制了薄膜的激光損傷閾值, 因此, 為了獲取高質量的 HfO2 薄膜, 某機構采用 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助鍍制 HfO2 薄膜.

 

客戶的樣品基底材料為 K9 玻璃, 靶材為 HfO2塊材料, 運行的離子源偏壓為 90V.

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術參數:

離子源型號	離子源 KDC 160
Discharge	DC 熱離子
離子束流	>650 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	16 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	2-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	25.2 cm
直徑	23.2 cm
中和器	燈絲

* 可選: 可調角度的支架

 

應用結果：通過使用伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 在偏壓為 90V 時, 制造得到的HfO2 薄膜晶粒減小, 膜結構更均勻, 緩解了激光能量的局部聚焦, 因此具有較高的損傷閾值.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

 

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