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某機(jī)構(gòu)為了研究離子源處理純鈦材料表面的時(shí)間長(zhǎng)短對(duì)純鈦材料表面生物活性及親水性的影響, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP 380 用于純鈦表面氨基化改性的研究.
試驗(yàn)樣品: 8mm X 8mm的厚度 1 mmde TA2型純鈦線
試驗(yàn)流量簡(jiǎn)介: 通過(guò)對(duì)試驗(yàn)樣品進(jìn)行刻蝕時(shí)間長(zhǎng)短不同形成不同的清潔表面, 然后通過(guò)儀器分析其親水性
用于刻蝕的 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):
射頻離子源型號(hào) | RFICP 380 |
Discharge 陽(yáng)極 | 射頻 RFICP |
離子束流 | >1500 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦 |
流量 | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 39 cm |
直徑 | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
推薦理由:
使用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 可以準(zhǔn)確、靈活地對(duì)樣品選定的區(qū)域進(jìn)行刻蝕
試驗(yàn)結(jié)論:
N2和 NH3 的混合氣體射頻離子源處理純鈦表面, 可以在表面引入氨基, 但處理時(shí)間并不是越長(zhǎng)越好, 改性后的鈦片表面的親水性得到較大的提高, 但隨放置時(shí)間的增加其表面親水性會(huì)變差, 在5h內(nèi), 改性鈦片保存在氮?dú)鈿夥罩杏欣诒3制溆H水性.
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