無論是何種膜系結構, 玻璃基片表面的清潔程度和表面狀態將直接影響所鍍膜層的質量, 如薄膜的附著力/ 粗糙度以及薄膜的物理性能與機械強度.

 

但在放置和傳輸過程中會對玻璃基片表面難以避免地出現不明污染物, 失去 "新鮮表面" 形成鈍化層, 甚至可視痕跡.  對于低輻射玻璃而言, 在瑕疵處生長的銀膜會在后續鋼化及熱彎過程中形成團聚, 導致透光性能與低輻射性能嚴重惡化, 鍍膜產品報廢,降低成品率.

 

因此, 國內某玻璃制造商采用伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eH 3000 在玻璃基片傳輸后/ 鍍膜前進行在線基片表面處理工序.

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數:

離子源型號	霍爾離子源 eH3000
Cathode/Neutralizer	HC
電壓	50-250V
電流	20A
散射角度	>45
可充氣體	Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
氣體流量	5-100sccm
高度	6.0“
直徑	9.7“
水冷	可選

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

 

該制造商采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000離子源解離 Ar 氣體,轟擊玻璃表面,對玻璃基片表面進行清洗和刻蝕.

 

推薦理由：

設備穩定,抗污染能力強,可以進行基片表面清洗與輔助沉積, KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 對玻璃基片表面有效去除二次污染/ 增加基片表面能/ 控制基片表面粗糙度.

 

運行結果:

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000能有效去除二次污染,對玻璃基片有效清洗清洗和刻蝕, 獲得更清潔/ 平滑的玻璃基片表面提高了所鍍膜層的質量,提高薄膜的附著力, 改善薄膜粗糙度以及薄膜的物理性能與機械強度降低了鍍膜產品報廢,提高了成品率 伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

 

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