氧化物薄膜具有優越的機械、光學性能以及良好的環境穩定性, 被廣泛應用于可見近紅外波段制備各種低損耗光學薄膜.

 

某國內精密光學薄膜制造商為了獲得品質良好的Al2O3 薄膜, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380 和考夫曼離子源 KDC100 輔助濺射鍍制 Al2O3 薄膜.

 

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

射頻離子源型號	RFICP380
Discharge 陽極	射頻 RFICP
離子束流	>1500 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	30 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	39 cm
直徑	59 cm
中和器	LFN 2000

 

工藝簡介:

該制造商采用雙離子輔助鍍制 Al2O3 薄膜, 其中一個離子源（KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380）主要是用于產生高能氬離子束轟擊靶材, 通過動量傳遞使靶材原子獲得足夠的動能而脫離靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉積而形成一層薄膜;

另一個輔助離子源（KRI 考夫曼離子源 KDC100）通入氧氣和氬氣的混合氣體, 通過對生長中的薄膜的轟擊, 使得薄膜進一步致密, 同時改善薄膜的化學計量比.

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術參數：

離子源型號	離子源 KDC 100
Discharge	DC 熱離子
離子束流	>400 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	12 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	2-20 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	23.5 cm
直徑	19.4 cm
中和器	燈絲

* 可選: 可調角度的支架

 

其工作示意圖如下:

 

運行結果:

1. 制備的薄膜在中紅外波段具有高的折射率和低的消光系數, 光滑的表面特性和極低的表面散射耗損, 在2.7μm波段沒有發現由于水吸收導致的消光系數的增大；

2. 制備的反射膜在2.7 μm反射率達到了99.63%, 接近于理論計算值；

3. 鍍制的Al2O3 薄膜具有優良的環境穩定性.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

 

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