蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶（純度均為99.9%）,在 CrMoAl 齒輪鋼和 Si（100）表面沉積 BCx 薄膜

伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術參數(shù):

型號	RFICP140
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>600 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	14 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	5-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	24.6 cm
直徑	24.6 cm
中和器	LFN 2000

 

試驗結(jié)論:

相同的沉積時間內(nèi), BCx 薄膜的厚度隨石墨靶電流的增加逐漸增大, 硬度、彈性模量逐漸降低,微觀形貌的柱狀結(jié)構特征越來越明顯;增加石墨靶電流可以提高BCx薄膜的摩擦學性能, 當石墨靶電流為 2.4A 時, BCx 薄膜的摩擦因數(shù)穩(wěn)定在 0.2 左右, 且具有最佳的耐磨性能。

 

KRI 離子源的獨特功能實現(xiàn)了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現(xiàn)的.

 

KRI 離子源是領域公認的領導者, 已獲得許多專利. KRI 離子源已應用于許多已成為行業(yè)標準的過程中.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

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