金屬熱蒸鍍設備 Metal Thermal Evaporation System
熱蒸發制程是用于沉積材料中最簡單的物理氣相沉積 PVD . 將材料 (金屬或者有機材料等) 置于真空環境中的電阻熱源中, 使其加熱并蒸發, 以最直接的方式蒸發到基板上, 然后在基板上凝結成固態形成薄膜. 熱蒸發比濺鍍可以提供更快的蒸發速率. 上海伯東代理的金屬熱蒸鍍設備加裝美國 KRI 離子源, 可以精準的控制蒸發速度, 為客戶提供品質保證的復合式薄膜, 且薄膜的厚度和均勻度小于 /- 3％, 廣泛應用于納米薄膜, 太陽能電池等行業以及金屬材料的研究等.
上海伯東金屬熱蒸鍍設備配置和優點
客制化的基板尺寸, 最大直徑為 12寸晶圓或 470 x 370 mm
寬大的前開式門, 并有兩個視窗和視窗遮版用于觀察基材和蒸發源
優異的薄膜均勻度小于?3％
具有順序操作或共沉積的多個蒸發源
基板可加熱到 800?C
利用載臺旋轉來改善薄膜沉積品質
基板至蒸發源的間距可調式
每個蒸發源和基材均有安裝遮板
上海伯東美國 KRI 離子源可用于基板清潔和加速材料的蒸發速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密.

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