分子泵組應用于真空管式爐
科研單位一般會通過真空管式爐做元素分析測定和一般小型鋼件的淬火, 退火, 回火, 電子陶瓷等新材料的加熱. 真空管式爐以電阻絲為加熱元件, 采用單層, 雙層或多層殼體結構, 特別適合于在氣氛保護或真空的環境下對樣品進行退火和燒結.
真空管式爐是高校, 科研院所, 工礦企業做高溫氣氛燒結, 氣氛還原, CVD 實驗, 真空退火應用的理想產品. 真空度一般在 10-2Torr, 使用機械泵即可滿足. 但是有些應用要在高真空環境下進行, 真空度要求 10-5 Torr, 推薦使用德國 Pfeiffer 分子泵組.

德國 Pfeiffer 分子泵組 Hicube 80 Eco 滿足管式爐真空系統配置！

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