先進半導(dǎo)體應(yīng)用的原位過程控制
上海伯東日本 Atonarp Aston?  Impact 和 Aston? Plasma 是超緊湊型質(zhì)譜儀, 適用于先進半導(dǎo)體工藝（如沉積和蝕刻）所需的定量氣體分析.

Aston? 質(zhì)譜儀解決了關(guān)鍵的原位計量問題

? 提高吞吐量: 端點檢測而不是基于時間的流程
? 提高產(chǎn)量: 以十億分之一的靈敏度測量沉積和蝕刻工藝期間的工藝氣體 / 副產(chǎn)物

Aston? 質(zhì)譜儀先進工藝的優(yōu)勢
ppb 級靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結(jié)構(gòu)
耐腐蝕性氣體
堅固緊湊
易于集成到工具平臺中
沉積應(yīng)用中:  實時過程氣體監(jiān)控，以驅(qū)動自動化工具調(diào)整以實現(xiàn)過程控制, 沉積步驟之間的終點檢測, 實現(xiàn)層的化學(xué)計量工程
蝕刻應(yīng)用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產(chǎn)品, 啟用端點腔室清潔

Atonarp  Aston? 技術(shù)參數(shù)

Aston? 質(zhì)譜儀半導(dǎo)體制造應(yīng)用

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