產(chǎn)品描述

上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 10, 寬束離子源,最小型號(hào)的離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.

離子束流: >10 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical flow): 1-5 sccm.

加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.

離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.

無(wú)需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設(shè)計(jì).

美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 10 技術(shù)參數(shù)：

伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 技術(shù)參數(shù)：

離子源型號(hào)	離子源 KDC 10
Discharge	DC 熱離子
離子束流	>10 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V
柵極直徑	1 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	1-5 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長(zhǎng)度	11.5 cm
直徑	4 cm
中和器	燈絲

美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應(yīng)用領(lǐng)域：

伯東KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 離子清洗, 顯微鏡拋光 IBP

2. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

3. 輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜) IBAD

4. 表面改性, 激活 SM

5. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

6. 離子蝕刻 IBE