產品描述

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 離子束可聚焦, 平行, 散射.

離子束流: >600 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 

采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求.

離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養/ 維修/ 安裝.

非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕工藝.

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 140 技術參數：

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 140 技術參數:

型號	RFICP 140
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>600 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	14 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	5-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	24.6 cm
直徑	24.6 cm
中和器	LFN 2000

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 140 應用領域：

伯東KRI 考夫曼離子源 RFICP 140 應用領域：

1.預清洗

2.表面改性

3.輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,

4.濺鍍和蒸發鍍膜 PC

5.離子濺射沉積和多層結構 IBSD

6.離子蝕刻 IBE