產品描述

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.

尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6“

放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A

操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

美國 KRI 霍爾離子源 eH 3000 產品特性：

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性：

1.水冷 - 加速冷卻

2.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極

3.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

4.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便

5.高效的等離子轉換和穩定的功率控制

美國 KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數：

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數:

離子源型號	霍爾離子源 eH3000 eH3000LO eH3000MO
Cathode/Neutralizer	HC
電壓	50-250V 50-300V 50-250V
電流	20A 10A 15A
散射角度	>45
可充氣體	Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
氣體流量	5-100sccm
高度	6.0“
直徑	9.7“
水冷	可選

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

美國 KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域：

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域：

1. 濺鍍和蒸發鍍膜 PC

2. 輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 直接沉積 DD