產(chǎn)品描述

上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 160. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.

離子束流: >650 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical flow): 2-30 sccm.

加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強設(shè)計輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.

離子源采用模塊化設(shè)計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.

無需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設(shè)計.

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術(shù)參數(shù)：

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術(shù)參數(shù)：

離子源型號	離子源 KDC 160
Discharge	DC 熱離子
離子束流	>650 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	16 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	2-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	25.2 cm
直徑	23.2 cm
中和器	燈絲

* 可選: 可調(diào)角度的支架

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 應(yīng)用領(lǐng)域：

伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 應(yīng)用領(lǐng)域:

1. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

2. 輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

5. 離子蝕刻 IBE