產品描述

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵極離子源.

離子束流: >800 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 壓力: < 0.5m Torr

離子束可聚焦, 平行, 散射.

采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.

通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數：

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:

離子源型號	RFICP 220
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>800 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	20 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	10-40 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	30 cm
直徑	41 cm
中和器	LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 220 應用領域：

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 應用領域：

1. 預清洗

2. 表面改性

3. 輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,

4. 濺鍍和蒸發鍍膜 PC

5. 離子濺射沉積和多層結構 IBSD

6. 離子蝕刻 IBE